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低溫制冷循環(huán)水溫機

簡要描述：低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。 醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥。 科學(xué)實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

  • 產(chǎn)品型號：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時間：2023-11-17
  • 訪  問  量：20745

詳細介紹

品牌冠特制冷工作方式風(fēng)冷、水冷
恒溫波動度±0.3℃℃恒溫范圍-150℃-350℃℃
冷卻方式水冷式價格區(qū)間1萬-2萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)儀器種類一體式
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,石油,能源,制藥

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低溫制冷循環(huán)水溫機廣泛用于各種實驗研究用儀器及工業(yè)生產(chǎn)用設(shè)備發(fā)熱部的冷卻恒溫作用分析儀器：原子吸收、質(zhì)譜儀、旋光儀。醫(yī)療設(shè)備：降溫毯。工業(yè)設(shè)備及激光設(shè)備： 生物制藥。科學(xué)實驗設(shè)備：分子泵旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)儀、蒸餾器、發(fā)酵裝置、激光器、金屬快速成型裝置、真空鍍膜機。

半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
低溫制冷循環(huán)水溫機技術(shù)參數(shù)：


型號

℃

溫度范圍

L/min bar

循環(huán)泵

電源

（kw） at （℃） 制冷量

加注冷媒

-20

-35

-55

DW-418

—40～30

20

0.7

220/380V

50/60HZ

1.2

0.4


R404A

R407C


DW-440

—40～30

20

0.7

2.7

0.75


DW-462

—40～30

35

1

3.8

1.1


DW-490

—40～30

35

1

5.5

1.5


DW-4A1

—40～30

35

1

7

2.1


DW-4A2

—40～30

80

1.5

14

4


DW-618

—60～—20

20

0.7


0.6

0.4

R404A

R23

R13

DW-630

—60～—20

20

0.7


1.1

0.6

DW-662

—60～—20

35

1


2

1.15

DW-6A1

—60～—20

35

1


3.5

2

DW-6A2

—60～—20

75

1.5



13

5., 8



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